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    四氟化碳《氣體應(yīng)用大全》

    2019-7-23 9:40:19

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    四氟化碳CF4

    1.別名·英文名
    四氟甲烷、氟里昂14;Tetrafluoromethane、Carbon Tetraflu-oride.
    2.四氟化碳用途
    制冷、氣體絕緣、干蝕刻氣、氟化劑、表面處理劑、激光氣體泄漏檢驗(yàn)劑。
    3.四氟化碳制法
    (1)C+2F2→CF4
    (2)SiC+2F2→CF4+Si
    (3)醋酸溶解于無水氫氟酸中,電解制取。
    (4)一氧化碳和氟反應(yīng)。
    4.四氟化碳理化性質(zhì)
    分子量:88.005
    熔點(diǎn)(101.325kPa): -186.8℃
    沸點(diǎn)(101.325kPa): -128.0℃
    液體密度(-127.94℃,101.325kPa):1603kg/m3
    氣體密度(0℃,101.325kPa): 3.946 kg/m3
    相對(duì)密度(氣體,0℃,101.325kPa): 3.05
    氣液容積比(15℃,100kPa):436 L/L
    比容(21.1℃,101.325kPa):0.2747m3/kg
    臨界溫度: -45.6℃
    臨界壓力: 3739kPa
    臨界密度: 629kg/m3
    壓縮系數(shù):
    溫度℃
    壓縮系數(shù)
    100kPa
    1000kPa
    5000kPa
    10000kPa
    1 5
    0.9981
    0.9763
    0.7832
    0.6058
    50
    0.9988
    0.9866
    0.8717
    0.7637

    熔化熱(-186.8℃): 7.609 kJ/kg
    氣化熱(-127.94℃,101.325kPa): 135.65 kJ/kg
    比熱容(氣體,25℃,101.325kPa):Cp=696 J/(kg·K)
    Cv=602J/(kg·K)
    比熱比(氣體,25℃,101.325kPa):Cp/Cv=1.157
    蒸氣壓(-180.65 C):0.20 kPa
    (-120℃): 165 kPa
    (-50℃): 3220 kPa
    粘度(101.325kPa,0℃,氣體):0.0161 mPa·S
    (-60.0℃,液體):0.170 mPa·S
    表面張力(-80.0℃): 6.4 mN/m
    導(dǎo)熱系數(shù)(101.325kPa,0℃):0.01503 w/(m·K)
    (液體,-60.0℃):0.07196 w/(m·K)
    折射率(-73℃): 1.151
    四氟化碳在常溫常壓下為無色無臭有輕微醚味的氣體??諝庵胁蝗紵?,是比較穩(wěn)定的無毒物質(zhì)。但是在高溫時(shí),或與可燃?xì)怏w一同燃燒時(shí),分解出有毒的氟化物。在1000℃以上能與二氧化碳形成羰基氟。微溶于水,在25℃,101.325kPa時(shí),水中溶解度為0.0015%(重量)。有輕微的水解作用。
    5.四氟化碳毒性
    四氟化碳一般認(rèn)為是惰性低毒物質(zhì),在高濃度下是窒息劑,其毒性不及四氯化碳。
    6.四氟化碳安全防護(hù)
    四氟化碳為非腐蝕性氣體,所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅,鋁等金屬材料都可以使用,但是含鎂大于2%的合金不能用。在高溫,一些金屬起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增長(zhǎng)的次序由小到大地排列則如下:因科鎳合金、奧氏體不銹鋼、鎳、鋼、鋁、銅、青銅、黃銅、銀。
    可以用聚四氟乙烯,環(huán)氧樹脂和醋酸纖維。尼龍?jiān)诟邷?,有水和空氣時(shí)變脆。聚三氟氯乙烯聚合體可以用,但稍微有膨脹。
    廢氣可直接排人大氣中。
       四氟化碳為非腐蝕性氣體,所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅,鋁等金屬材料都可以使用,但是含鎂大于2%的合金不能用。在高溫,一些金屬起加速CF4分 解的催化作用。按其催化作用增長(zhǎng)的次序由小到大地排列則如下:因科鎳合金、奧氏體不銹鋼、鎳、鋼、鋁、銅、青銅、黃銅、銀。
    可以用聚四氟乙烯,環(huán)氧樹脂和醋酸纖維。尼龍?jiān)诟邷兀兴涂諝鈺r(shí)變脆。聚三氟氯乙烯聚合體可以用,但稍微有膨脹。廢氣可直接排入大氣中。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體,其
       高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體,可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。對(duì)于硅和二氧化硅體系,采用CF4-H2反應(yīng)離子刻蝕時(shí),通過調(diào)節(jié)兩種氣體的比例,可以獲得45:1的選擇性,這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時(shí)很有用。
       在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用
       由于化學(xué)穩(wěn)定性極強(qiáng),CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。
       四氟化碳的溶氧性很好,因此被科學(xué)家用于超深度潛水實(shí)驗(yàn)代替普通壓縮空氣。
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