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    《紫外準(zhǔn)分子激光器在材料加工領(lǐng)域的應(yīng)用》

    2011-10-26 16:30:27

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    準(zhǔn)分子激光器推進(jìn)技術(shù)革新
    作為當(dāng)今最有效、最可靠的脈沖紫外激光技術(shù)的代表,準(zhǔn)分子激光器有效地推進(jìn)了諸如平板顯示、汽車制造、生物醫(yī)學(xué)設(shè)備及可替代能源等多種成長(zhǎng)型工業(yè)中的技術(shù)革新。
    波長(zhǎng)和輸出功率,這兩個(gè)基本屬性的結(jié)合,決定了準(zhǔn)分子激光器在上述這些高科技產(chǎn)業(yè)中的獨(dú)特價(jià)值。因?yàn)椋@些工業(yè)領(lǐng)域比以往任何時(shí)候更需要平衡日益增長(zhǎng)的性能需求與加工速度及制造成本之間的矛盾。

    紫外表面處理
    準(zhǔn)分子激光是一種窄帶寬的紫外光源,可以為基于商用激光的制造業(yè)提供最短的波長(zhǎng)或(相當(dāng)于)最高的激光光子能量。由于在激光材料加工領(lǐng)域可以達(dá)到的光學(xué)分辨率與激光波長(zhǎng)有關(guān),因此短波長(zhǎng)的準(zhǔn)分子激光成為市場(chǎng)上最為精確的光學(xué)加工工具。利用基于商用準(zhǔn)分子激光的材料加工系統(tǒng),如圖1所示,可以獲得接近1祄的特征尺寸[1](具體數(shù)值取決于波長(zhǎng)和材料)。



    圖1. 對(duì)堅(jiān)硬的固體材料層使用248nm準(zhǔn)分子激光掩膜成像形成的大面積薄膜圖樣。整個(gè)高分辨率圖樣的獲得僅利用了單個(gè)準(zhǔn)分子激光脈沖。



    而且,短波長(zhǎng)代表著最小的橫向結(jié)構(gòu),同時(shí),材料對(duì)高光子能量(例如,248nm時(shí)為5eV或 193nm時(shí)為6.4eV)的強(qiáng)烈吸收,又將意味著激光對(duì)材料縱向的影響非常有限。實(shí)際上,準(zhǔn)分子激光在薄膜材料加工中的深度分辨率在亞微米范圍,通常每脈沖可以小至50nm(具體數(shù)值取決于樣本材料和激光波長(zhǎng))。



    圖2. 鉆石經(jīng)193nm準(zhǔn)分子激光燒蝕形成的凹坑:左圖為10個(gè)激光脈沖情況,右圖為600個(gè)激光脈沖情況。凹坑的平整度表明了準(zhǔn)分子激光光束在整個(gè)照明區(qū)域具有極高的均勻性。



    準(zhǔn)分子激光在樣本材料的橫向及縱向均可以提供無(wú)可匹敵的高分辨率光學(xué)加工能力。在通過(guò)改變微結(jié)構(gòu)來(lái)增進(jìn)大表面功能的領(lǐng)域,準(zhǔn)分子激光已成為最為理想的工具。
    除此之外,準(zhǔn)分子激光是目前基于商用激光的制造業(yè)中,可利用的最強(qiáng)紫外激光。

    紫外技術(shù)比較
    現(xiàn)在,準(zhǔn)分子激光在308nm的輸出功率已經(jīng)超過(guò)500W,如圖3所示。圖中對(duì)基于準(zhǔn)分子激光技術(shù)、二極管泵浦及閃光燈泵浦的全固態(tài)激光技術(shù)所能取得的功率水平進(jìn)行了對(duì)比。目前先進(jìn)水平的準(zhǔn)分子激光器可以輸出高達(dá)1J的脈沖能量,同時(shí)重復(fù)頻率可高達(dá)600Hz。由于極高的脈沖能量,可使處于每平方厘米高達(dá)1J的能量密度下、面積寬達(dá)30mm2的樣品,通過(guò)逐個(gè)準(zhǔn)分子激光脈沖的刻蝕,實(shí)現(xiàn)樣品的微細(xì)構(gòu)造。這種微細(xì)構(gòu)造的實(shí)現(xiàn)過(guò)程,如果轉(zhuǎn)化到更大的尺度上,可以比喻為用一片片青草去構(gòu)造足球場(chǎng)。



    圖3. 各種高功率準(zhǔn)分子激光器的輸出功率水平與基于全固態(tài)的355nm激光技術(shù)比較,圖中給出了308nm和248nm波長(zhǎng)的準(zhǔn)分子激光情況。



    同時(shí)高功率準(zhǔn)分子激光器可以在高達(dá)600Hz的重復(fù)頻率下運(yùn)轉(zhuǎn),使得每秒處理幾十平方厘米的表面加工速度成為可能。
    準(zhǔn)分子激光器具有可擴(kuò)展至數(shù)百瓦的較高的單脈沖能量,這意味著可以處理更大的區(qū)域尺寸,同時(shí)每秒鐘可提供數(shù)百個(gè)脈沖,這必將在制造業(yè)中引發(fā)規(guī)模效應(yīng),以前所未有的方式增進(jìn)盈利。
    只有當(dāng)紫外激光的波長(zhǎng)和高輸出功率這兩個(gè)必要條件同時(shí)具備,正如準(zhǔn)分子激光器那樣,才能滿足工業(yè)界對(duì)于微尺度構(gòu)造及快速大面積表面處理(每秒速度達(dá)幾十平方厘米)的迫切需求。
    事實(shí)上,基于表面微結(jié)構(gòu)處理的準(zhǔn)分子激光器常常是基本的制造步驟,在下文介紹應(yīng)用實(shí)例時(shí)會(huì)作進(jìn)一步闡述。

    紫外光的直接產(chǎn)生是關(guān)鍵
    準(zhǔn)分子激光技術(shù)的激光躍遷發(fā)生在紫外光譜范圍,正是這個(gè)原因,使得準(zhǔn)分子激光技術(shù)能夠凌駕于其他紫外技術(shù)之上。準(zhǔn)分子激光是在內(nèi)在機(jī)理上直接產(chǎn)生紫外光子,這使其成為市場(chǎng)上最強(qiáng)和最穩(wěn)定的紫外激光光源。



    表1:各種紫外技術(shù)的性能參數(shù)比較(準(zhǔn)分子激光 vs. 基于頻率變換的Nd:YAG激光)



    與此相反,并行的紫外產(chǎn)生概念基于紅外(IR)及可見光,需要采用非線性頻率轉(zhuǎn)換技術(shù),這將不可避免地使紫外輸出效率及輸出穩(wěn)定性大打折扣,嚴(yán)重影響激光器的實(shí)際輸出性能[2]。
    表1概括比較了準(zhǔn)分子激光器技術(shù)和紅外上轉(zhuǎn)換激光器技術(shù)的典型紫外性能參數(shù)。
    只有準(zhǔn)分子激光器可以直接發(fā)射紫外波長(zhǎng),并且沒有任何其他的技術(shù)折中,這使其在微米級(jí)高精度加工、高生產(chǎn)能力的批處理及大規(guī)模制造中成為最卓越的解決方案。

    經(jīng)紫外準(zhǔn)分子處理后獲得更好的表面特性
    以下給出的多個(gè)應(yīng)用實(shí)例,將最大限度地呈現(xiàn)準(zhǔn)分子激光器在當(dāng)今先進(jìn)制造領(lǐng)域中的創(chuàng)新潛力。在下述這些制造實(shí)例中,均包含生產(chǎn)中起關(guān)鍵作用的準(zhǔn)分子激光器,以實(shí)現(xiàn)性能上的飛躍。



    圖4. 經(jīng)準(zhǔn)分子激光處理的Diesel 引擎汽缸視圖(Audi AG)。



    增強(qiáng)Diesel馬達(dá)的性能
    Diesel引擎是世界上運(yùn)輸部門領(lǐng)域最重要的汽油、柴油燃料使用者之一。Diesel引擎對(duì)于公共交通、貨運(yùn)(通過(guò)公路、鐵路及海洋等)及農(nóng)業(yè)機(jī)械至關(guān)重要。并且,大約40%的歐洲汽車市場(chǎng)是基于Diesel引擎的。
    市場(chǎng)對(duì)于更高功率及效率的需求,加之嚴(yán)格的環(huán)境立法對(duì)節(jié)省燃料以及減小環(huán)境污染的苛刻要求,不斷迫使引擎制造商尋求制造方案上的革新。
    因?yàn)镈iesel引擎技術(shù)使用高的壓縮比,考慮到潤(rùn)滑及耐磨的要求,活塞在鑄鐵汽缸套(如圖4所示)中來(lái)回移動(dòng)時(shí)的摩擦條件是非常重要的。

    傳統(tǒng)的汽缸壁處理
    如圖5所示,在傳統(tǒng)汽缸套的內(nèi)壁上呈現(xiàn)出許多微通道交錯(cuò)的形貌,這是由于機(jī)械拋光(即所謂的搪磨處理)導(dǎo)致的。由于這些微通道的存在,當(dāng)活塞在汽缸內(nèi)移動(dòng)時(shí),缸內(nèi)的潤(rùn)滑油將順著這些微通道流出缸外,這將嚴(yán)重削弱活塞環(huán)和汽缸壁的潤(rùn)滑效果。并且,事實(shí)上,活塞環(huán)和汽缸套壁之間的摩擦損耗占據(jù)Diesel引擎所有損耗的比例多達(dá)60%。



    圖5.傳統(tǒng)鑄鐵汽缸套表面的微結(jié)構(gòu)圖(Audi AG)。從圖中可以清晰地看到由于機(jī)械搪磨加工引起的呈十字交叉狀的微通道結(jié)構(gòu)。




    圖6. 經(jīng)過(guò)準(zhǔn)分子激光處理后的汽缸套表面的微結(jié)構(gòu)圖。更為平滑和堅(jiān)硬的表面意味著更少的摩擦和磨損。釋放出石墨包含物的凹槽可以充當(dāng)儲(chǔ)油容器(Audi AG)。



    基于準(zhǔn)分子激光的汽缸壁加工
    如圖6所示,借助308nm準(zhǔn)分子激光器的紫外光子及氮輔助氣體對(duì)汽缸套進(jìn)行后處理,可以完全將上述不利于潤(rùn)滑的缸壁表面結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變?yōu)楦跐?rùn)滑的構(gòu)造。
    具有短波長(zhǎng)和高光子能量的準(zhǔn)分子激光可以與鑄鐵材料發(fā)生強(qiáng)烈作用,通過(guò)以下的三種效應(yīng),將汽缸內(nèi)表面處理成完全不同的表面。
    (1)有選擇地融化到大約2祄深度,可以實(shí)現(xiàn)汽缸套表面的大致平滑。
    (2)由于近壁表面石墨包含物的釋放,從而形成了可充當(dāng)儲(chǔ)油容器的凹槽。
    (3)氮輔助氣將引起額外的表面硬化,這是因?yàn)樾纬傻牡飳㈦S即濃縮在熔融表面上。
    采用Diesel引擎測(cè)試程序進(jìn)行對(duì)比分析,測(cè)試結(jié)果顯示了經(jīng)過(guò)準(zhǔn)分子激光處理的汽缸相對(duì)于傳統(tǒng)的搪磨型汽缸在磨損上減少的百分比。準(zhǔn)分子激光加工工藝使汽缸套和活塞環(huán)的磨損程度減小超過(guò)了85%。而且,與傳統(tǒng)的搪磨型汽缸相比,燃油消耗量也減小了大約75%[3](以上具體數(shù)值取決于工作周期)。
    因此,準(zhǔn)分子激光處理工藝可以提高燃料效率,減少長(zhǎng)期磨損,從而反過(guò)來(lái)又可以減小燃油消耗及有害粒子釋放,進(jìn)一步節(jié)省資源并保護(hù)環(huán)境。
    對(duì)于引擎制造商而言,準(zhǔn)分子激光處理工藝帶來(lái)的經(jīng)濟(jì)效益是雙重的:不但可以使他們的引擎制造輕易符合法律要求,更可使他們的產(chǎn)品在激烈的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中標(biāo)新立異。

    推進(jìn)顯示產(chǎn)業(yè)發(fā)展
    在過(guò)去幾十年里,全球平板顯示產(chǎn)業(yè)在各個(gè)顯示領(lǐng)域,從小尺寸的移動(dòng)電話和汽車導(dǎo)航用顯示屏,中等尺寸的電視機(jī)及筆記本電腦顯示屏,再到大尺寸的家庭娛樂系統(tǒng)和廣告屏幕等,均已經(jīng)歷了巨大的發(fā)展。新興的顯示技術(shù),如有機(jī)發(fā)光二極管技術(shù)或者基于柔性襯底的顯示技術(shù)(如圖7所示),將會(huì)進(jìn)一步推動(dòng)顯示產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展。平板顯示制造商將不斷面臨關(guān)于減小功率消耗,更快響應(yīng)時(shí)間,增強(qiáng)對(duì)比度及更好分辨率等方面的需求,從而對(duì)薄膜硅底板也提出了更為苛刻的要求。因此,越來(lái)越多地要求更快、更亮的顯示設(shè)備,正不斷挑戰(zhàn)著傳統(tǒng)非晶硅底板的性能極限。



    圖7. 基于柔性聚合物型底板的可彎曲顯示設(shè)備(Plastic Logic GmbH)。



    傳統(tǒng)的硅底板加工
    對(duì)于有源矩陣顯示設(shè)備,傳統(tǒng)的技術(shù)是采用硅材料,利用高溫高真空化學(xué)氣相沉積工藝,形成基本的導(dǎo)電層。然而不幸的是,采用這種技術(shù)獲得的硅層大部分在性質(zhì)上為非結(jié)晶的,這意味著將嚴(yán)重限制像素切換速度及平板顯示設(shè)備的總電力消耗。
    特別地,提供更高亮度和更高分辨率的高性能顯示設(shè)備,最終還要依賴于快速切換及更小的晶體管,因此,這需要傳統(tǒng)的非晶硅底板提供超過(guò)1cm2/V-sec的電子遷移率。

    基于準(zhǔn)分子激光的硅底板加工
    采用額外的準(zhǔn)分子激光處理工藝(如圖8所示),可以將低電子遷移率的非晶硅轉(zhuǎn)變?yōu)樾阅芨叩亩嗑Ч璞∧?,從而不但可以為新興的有源矩陣型有機(jī)發(fā)光二極管技術(shù)(AM-OLED)提供需要的驅(qū)動(dòng)電流,而且可以為高分辨率有源矩陣型液晶屏(AM-LCD)提供更快的電壓切換。
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    通過(guò)對(duì)非晶硅層進(jìn)行選擇性退火及再結(jié)晶,可以得到高度有序的微結(jié)構(gòu),從而實(shí)現(xiàn)非晶硅層向多晶硅層的轉(zhuǎn)變。由于308nm準(zhǔn)分子激光的短波長(zhǎng)及小的穿透深度,硅下面的玻璃襯底將不會(huì)受到高功率準(zhǔn)分子激光光束的影響[4]。

    另外,考慮到準(zhǔn)分子激光幾百瓦的輸出功率,快速大面積處理也是可行的。最終的處理結(jié)果是將電子遷移率顯著提高到高于100cm2/V-sec,這個(gè)值比傳統(tǒng)非晶硅層高了兩個(gè)數(shù)量級(jí)。圖9所示的多晶硅層,其高度有序的晶格結(jié)構(gòu)可以使電子更容易移動(dòng)。



    圖8. 基于準(zhǔn)分子激光的硅退火工藝原理圖,這種工藝可以將厚度大約50nm的非晶硅轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂懈唠娮舆w移率的多晶硅。



    因此,準(zhǔn)分子激光處理工藝可以推動(dòng)這類依賴于高電子遷移率的、高分辨率有源矩陣型液晶屏(AM-LCD)和有源矩陣型有機(jī)發(fā)光二極管 (AM-OLED)更快進(jìn)入市場(chǎng),這些顯示產(chǎn)品具有更快、更亮、更薄、更輕的誘人優(yōu)勢(shì)。

    總之,由于其低溫退火特性,準(zhǔn)分子激光表面變換技術(shù),成為可彎曲電子書及報(bào)紙這類基于柔性聚合物襯底(而非玻璃底板)的另類顯示技術(shù)的基本工藝環(huán)節(jié)。

    增加太陽(yáng)電池板的效率
    盡管太陽(yáng)能光電產(chǎn)業(yè)在逐年高速發(fā)展,但是實(shí)現(xiàn)太陽(yáng)能發(fā)電成本與現(xiàn)有電力成本持平的目標(biāo)仍然很困難。這項(xiàng)技術(shù)在沒有被大力扶持的情況下,可能還需要5年或更長(zhǎng)的時(shí)間才能具有大范圍的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。
    因此,目前通過(guò)工藝優(yōu)化,材料改進(jìn)(用于提高太陽(yáng)能電池效率)以及玻璃、晶片及接觸電極的改進(jìn)(用于增強(qiáng)對(duì)太陽(yáng)光的捕獲),可以極大地推動(dòng)太陽(yáng)能光電市場(chǎng)的發(fā)展。

    傳統(tǒng)的硅晶片刻蝕
    到目前為止,基于多晶硅太陽(yáng)能電池的硅是目前商業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)的主體。通常使用線鋸切割硅錠來(lái)生產(chǎn)晶片,這個(gè)工藝將會(huì)在晶片表面上形成深度大約10祄的微小裂痕,因?yàn)樗鼘p小晶片的機(jī)械強(qiáng)度,并增加在表面區(qū)域的重組,所以必須設(shè)法消除線鋸引起的損傷。傳統(tǒng)上采用快速溶液刻蝕方法來(lái)消除這種線鋸損傷??紤]到結(jié)晶面取向及雜質(zhì)導(dǎo)致的局部不同的刻蝕速度,大約幾個(gè)微米隨機(jī)分布的缺口將出現(xiàn)在整個(gè)表面上(如圖11所示),這種結(jié)構(gòu)不利于光反射損耗。但是,為了得到高效率的太陽(yáng)能電池,又必須得減小這個(gè)表面上的光反射率。



    圖9. 經(jīng)308nm準(zhǔn)分子激光退火及再結(jié)晶后形成的高度有序的多結(jié)晶硅層(The Japan Steel Works Ltd.)。




    圖10. 大尺寸多晶太陽(yáng)電池板裝置。




    圖11. 多晶硅晶片經(jīng)刻蝕液處理后的表面微觀視圖。



    準(zhǔn)分子激光對(duì)凸刻蝕層進(jìn)行刻圖
    通過(guò)引入基于準(zhǔn)分子激光器的加工工藝,可以顯著提升太陽(yáng)能電池總的光吸收效率。采用波長(zhǎng)為308nm或248nm的準(zhǔn)分子激光器對(duì)SiNx凸刻蝕層進(jìn)行大面積掩膜投影加工,可以得到規(guī)則的孔形圖案。經(jīng)準(zhǔn)分子激光器燒蝕后的SiNx凸刻蝕層經(jīng)刻蝕液處理后最終轉(zhuǎn)化為如圖12所示的結(jié)構(gòu)。
    通過(guò)對(duì)SiNx凸刻蝕層(包含準(zhǔn)分子激光燒蝕形成的精確的10祄直徑小孔)進(jìn)行刻蝕,得到了點(diǎn)距為20祄的規(guī)則圖案[5]。
    經(jīng)準(zhǔn)分子激光工藝處理后獲得的規(guī)則表面結(jié)構(gòu),可以將入射光轉(zhuǎn)向,以掠射角度射向玻璃-空氣界面,從而發(fā)生全內(nèi)反射,進(jìn)而再將光反射回電池表面。在封裝之后,總的光反射率由34%減小至11%,從而使總的電池效率增長(zhǎng)了0.4%。



    圖12. 采用準(zhǔn)分子激光器對(duì)SiNx凸刻蝕層進(jìn)行刻圖,并隨即對(duì)多晶硅晶片刻蝕處理后,得到了規(guī)則的表面結(jié)構(gòu)。




    圖13. 薄的HTS帶與圖中所示數(shù)量的銅線可以傳送相等的電力。



    目前先進(jìn)的準(zhǔn)分子激光器可以提供幾百瓦的輸出功率及幾百赫茲的脈沖重復(fù)頻率,在對(duì)SiNx凸刻蝕層進(jìn)行大面積紫外刻圖時(shí),可以達(dá)到每個(gè)太陽(yáng)能電池(尺寸為156mm×156mm)只需幾秒鐘的處理速度。

    使超導(dǎo)體商品化
    新興的高溫超導(dǎo)體(HTS)產(chǎn)業(yè)推動(dòng)了磁場(chǎng)能量存儲(chǔ)以及工作電流密度高于傳統(tǒng)銅纜系統(tǒng)100倍的電能傳輸網(wǎng)應(yīng)用。與傳統(tǒng)技術(shù)相比,采用基于HTS的系統(tǒng)(可由液氮冷卻),將會(huì)帶來(lái)更高的效率,更高的電流、電場(chǎng)及電力,更高的功率密度,更輕的重量和更小的尺寸等技術(shù)優(yōu)勢(shì)。這一點(diǎn)在圖13上得到了很好的闡釋,攜帶同樣電流所需的銅纜數(shù)量遠(yuǎn)遠(yuǎn)多于扁小的HTS帶,后者僅包含了1祄厚的超導(dǎo)YBCO層。未來(lái)HTS在節(jié)省成本及能耗上的巨大潛力,將使其成為突破技術(shù)屏障的首選方案。而現(xiàn)階段對(duì)于商業(yè)化HTS而言,最關(guān)鍵的是找到節(jié)省成本的高性能薄膜沉積技術(shù)[6]。

    傳統(tǒng)HTS薄膜的金屬有機(jī)沉積
    金屬有機(jī)沉積(MOD)是超導(dǎo)體金屬氧化物薄膜沉積中最有前途的化學(xué)工藝。在傳統(tǒng)的MOD工藝中,包含有適當(dāng)金屬原子(典型為Y、BA 和Cu)的有機(jī)前驅(qū)溶液被浸覆在襯底層上。隨后,在500℃和1000℃下進(jìn)行重復(fù)的加熱和烘干步驟,這分別用于有機(jī)溶劑的移除及氧化。由于基于溶液的沉積本身是一個(gè)很快的過(guò)程,所得到的YBCO層的晶體結(jié)構(gòu)以及電流密度性能都是不充分的。這個(gè)問題甚至無(wú)法通過(guò)耗時(shí)的重復(fù)加熱和烘干工藝來(lái)克服。

    在準(zhǔn)分子激光輔助下的有機(jī)金屬沉積
    通過(guò)AIST和JSW的日本研究者的演示,我們可以看到準(zhǔn)分子激光用于加速整個(gè)加工時(shí)間并提升薄膜性能方面的巨大能力。當(dāng)采用他們那種ELAMOD(Excimer Laser Assisted MOD,準(zhǔn)分子激光輔助下的有機(jī)金屬沉積)方法時(shí),傳統(tǒng)耗時(shí)的加熱及烘干工藝被更快速的308nm大面積準(zhǔn)分子激光照面工藝所取代,這將使加工速度提高5倍,并使超導(dǎo)薄膜的性能提升3倍。圖14中所示的顏色急劇變化,反映了由于YBCO層中化學(xué)鍵斷裂及重組(由準(zhǔn)分子激光器誘發(fā))引起的性能提升。



    圖14. 通過(guò)ELAMOD方法獲得的YBCO超導(dǎo)體薄層。黑色區(qū)域是經(jīng)準(zhǔn)分子激光掩膜形成的,表現(xiàn)出顯著的性能提升(由光化學(xué)愈合反應(yīng)引起)。




    圖15. 傳統(tǒng)的溶液沉積YBCO與準(zhǔn)分子激光照射處理的YBOC超導(dǎo)體層的臨界電流密度比較。



    當(dāng)用液氮冷卻由準(zhǔn)分子激光照射處理的YBCO層時(shí),測(cè)量得到了多于六百萬(wàn) Acm-2的臨界電流密度(見圖15)。這使得ELAMOD方法(如脈沖準(zhǔn)分子激光沉積,PLD)成為推進(jìn)大規(guī)模超導(dǎo)體商業(yè)化進(jìn)程的最有前途的方法。
    事實(shí)上,ELAMOD方法取得了目前最大的電流密度,高于通過(guò)化學(xué)溶液沉積工藝所得到的最大電流密度[7]。
    在最后這個(gè)關(guān)于潛在HTS市場(chǎng)的例子中,由于采用準(zhǔn)分子激光帶來(lái)的加工速度增長(zhǎng),將顯著降低生產(chǎn)成本,并允許更經(jīng)濟(jì)地大規(guī)模生產(chǎn)高質(zhì)量的半導(dǎo)體薄膜設(shè)備(采用掩膜刻蝕方法)及HTS帶(采用卷-卷結(jié)構(gòu))[8]。
    未來(lái)的應(yīng)用還包括超導(dǎo)體故障電流限制器(用于穩(wěn)定電網(wǎng)能量),圖案化的微波過(guò)濾器及天線結(jié)構(gòu),這將能在擁擠的市區(qū)為手機(jī)提供更好的通信能力。

    準(zhǔn)分子激光的美好未來(lái)
    準(zhǔn)分子激光在精密和大面積加工應(yīng)用領(lǐng)域超越了任何其他激光和非激光技術(shù)。
    在對(duì)突破材料限制需求越來(lái)越迫切的時(shí)代,準(zhǔn)分子激光器再次站在了尖端工業(yè)激光解決方案的最前沿。
    正如上面所指出的,通過(guò)采用紫外準(zhǔn)分子激光解決方案,可以幫助各式各樣的成熟及新興高科技產(chǎn)品(如顯示,汽車制造,可再生能源工業(yè))越過(guò)其內(nèi)在的性能瓶頸(這僅是表面上的)。
    微型化,尤其是薄膜技術(shù)的使用,是目前工業(yè)制造領(lǐng)域的必然趨勢(shì)。推進(jìn)薄膜技術(shù),不僅可以節(jié)省開銷,如在太陽(yáng)能光電產(chǎn)業(yè)中,采用多晶硅可以節(jié)省50%的最終模塊成本;而且可以提升性能,如在顯示領(lǐng)域需要采用足夠薄的導(dǎo)電氧化層,從而保證光學(xué)透明。在對(duì)這些薄的功能層(厚度僅僅為50nm到2祄)進(jìn)行大面積選擇性刻圖,照明及退火處理方面,憑借著無(wú)與倫比的紫外光子能量,準(zhǔn)分子激光器將繼續(xù)保持其王者地位。
     
    作者: Ralph Delmdahl  相干公司

    參考文獻(xiàn)
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