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    氣體知識

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    LED行業(yè)中用哪些特種氣體

    2016-2-25 17:25:54

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    特種氣體是光電子、微電子等領域,特別是在超大的規(guī)模集成電路、液晶顯示器件、非晶硅薄膜太陽能電池、半導體發(fā)光器件和半導體材料制造過程不可缺少的基硅性支撐源材料。它的純度和潔凈度直接影響到光電子、微電子元器件的質(zhì)量、集成度、特定技術指標和成品率,并且從根本上制約著電路和器件的精確性和準確性。 
      
        應用于LED產(chǎn)業(yè)的特種氣體  
        半導體工業(yè)用氣體品種多、質(zhì)量要求高、用量少,大部分是有毒或腐蝕性氣體。品種高達百余種。半導體工業(yè)特種氣體應用分類,主要包括:  
        1. 硅族氣體:含硅基的硅烷類,如硅烷、二氯二氫硅、乙硅烷等  
        2. 摻雜氣體:含硼、磷、砷等三族及五族原子之氣體,如三氯化硼、三氟化硼、磷烷、砷烷等。  
        3. 蝕刻清洗氣體:以含鹵化物及鹵碳化合物為主,如氯氣、三氟化氮、溴化氫、四氟化碳、六氟乙烷等 
        4. 反應氣體:以碳系及氮系氧化物為主,如二氧化碳、氨、氧化亞氮等。  
        5. 金屬氣相沉積氣體:含鹵化金屬及有機烷類金屬,如六氟化鎢、三甲基鎵等。 
     
        LED產(chǎn)業(yè)鏈中,外延技術、設備和材料是外延片制造技術的關鍵。當前MOCVD工藝已成為制造絕大多數(shù)光電子材料的基本技術。外延技術需要的超純特種氣體包括高純砷烷、高純磷烷、高純氨氣,砷化鎵生產(chǎn)中應用硅烷N型摻雜,而氯化氫和氯氣常常用做蝕刻氣,氬、氫、氮則是必須的載氣。同時外延生長需要的有機源主要是三甲基鎵,三甲基銦,三甲基鋁,二乙基鋅,二甲基鋅,二茂鎂等。現(xiàn)有技術的發(fā)展對這些產(chǎn)品的品質(zhì)要求也越來越高。  
        在半導體化合物生產(chǎn)過程中,除了純特種所之外,還需要部分混合氣體,主要包括SiH4/H2.SiH4/N2作為成膜源用量盡管不大,但是對產(chǎn)品質(zhì)量要求極高,配制混合氣體的露點達到-95℃以下,只有這樣才可以保證外延片生長的成品率。  
        化合物半導體產(chǎn)業(yè)的擴展,帶動原材料市場的迅速提升,包括晶圓、襯底、蝕刻劑、過程氣體、有機金屬化合物、測試和包裝材料等的需求每年以大約21%的比例遞增,而過程氣體(砷烷、磷烷、氨氣、氬、氫、氮、氯化氫、氯氣等)占整體原料的消耗8%
     
     
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