報告摘要： 　　電子特種氣體是光電子、微電子等領(lǐng)域，特別是超大規(guī)模集成電路、液晶顯示器件、半導體發(fā)光器件和半導體材料制造過程不可缺少的基礎(chǔ)性支撐源材料。它的純度和潔凈度直接影響到光電子、微電子元器件的質(zhì)量、集成度、特定技術(shù)指標和成品率，并從根本上制約著電路和器件的精確性和準確性。 　　高純?nèi)∟F3），在集成電路、大型屏幕液晶顯示屏（TFT-LCD）的生產(chǎn)中，作為清洗劑之用。由于它作為刻蝕劑和清洗劑具有快速、高效等優(yōu)點，目前無論在世界上，還是我國國內(nèi)，都有著很大的發(fā)展空間。 　　2004年世界NF3的生產(chǎn)能力達到了3640噸左右。具有年產(chǎn)百噸生產(chǎn)能力的生產(chǎn)廠家已有9家。目前我國在NF3氣體的年生產(chǎn)能力為300噸左右。而實際生產(chǎn)量在2004年約有30噸。我國在NF3氣體的應用市場上，2004年需求約為200噸，并且在今后幾年中，其需求量是以50%的年增長率在快速增加。預計在2006年我國市場需求量將達到400噸左右，到2009年達到1000噸左右的需求。為此看出，我國在半導體和TFT液晶方面用高純NF3氣體的市場缺口甚大。 　　本報告從NF3的特性；主要生產(chǎn)工藝技術(shù)；主要應用領(lǐng)域；世界市場現(xiàn)狀與發(fā)展；世界生產(chǎn)現(xiàn)狀與發(fā)展；國內(nèi)市場現(xiàn)狀與發(fā)展；國內(nèi)生產(chǎn)及研發(fā)現(xiàn)狀；國內(nèi)在NF3氣體方面的知識產(chǎn)權(quán)情況；NF3生產(chǎn)的經(jīng)濟效益與投資風險分析等九個方面進行的調(diào)研，并且進行了深入分析。本報告所引入的相關(guān)數(shù)據(jù)，均進行了多方面的核實，具有準確性、權(quán)威性。本報告是提供給籌建NF3廠家、了解此市場的經(jīng)營者、關(guān)注此產(chǎn)業(yè)發(fā)展的機構(gòu)等的一份必要參考資料。